報告によると、何人かの専門家は、ＦＴＯ透明導電性ガラス上に異なる厚さの結晶性酸化タングステン膜を調製するためにパルスＤＣ反応性マグネトロンスパッタリングコーティング法を使用した。専門家らは、エレクトロクロミック裝置における裝置全體の変色振幅および著色効率に最も大きな影響を及ぼす変色層として、適切な酸化タングステン膜の厚さを選択すべきであると述べている。
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http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html
加えて、専門家はまた、調製されたフィルムは単斜晶系構造を有し、厚さが増加するにつれて結晶化度が徐々に増加し、表面粗さが徐々に減少すると述べた。著色後、単斜晶系ＷＯ２．９２から立方晶系ＷＯ３に変換して格子歪みが発生し、膜厚が増加すると格子歪みが減少した後に増加し、２５０ｎｍのときに格子歪みが最小となり厚さが２００ｎｍ以下となる。 300 nmのフィルムの著色により、ひずみが大幅に増加します。異なる厚さのフィルムの著色前後の表面粗さの変化は格子歪みと一致しており、粗さは最初に減少してから増加し、250 nmでの著色前後のフィルムの表面粗さが最も小さい。同じ駆動電圧では、３００ｎｍ厚の膜が変色したときに発生する過度の応力によりリチウムイオンの移動が妨げられ、一部のＷ５ ＋をＷ６ ＋に変換することができず完全に退色することができない。エレクトロクロミックは、膜厚が約２５０ｎｍのときに最適であり、そして高い光変調振幅および色変化効率を有する。
