據報道，鉭摻雜三氧化鎢薄膜，即W-Ta氧化物納米復合薄膜，具有比單一三氧化鎢薄膜更優越的電化學穩定性和質子傳導性能。但是，同時，對不同鉭摻雜量三氧化鎢薄膜的微結構和電化學性能研究較少。
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因此，有專家采用磁控濺射法制備了不同鉭摻雜濃度的W1-xTaxO薄膜，研究其對氧化鎢薄膜電致變色性能的影響。他們將不同含量Ta摻雜的氧化鎢薄膜表示為W1-xTaxO3，x即為薄膜中Ta元素相對W元素的摻雜量。采用X射線光電子能譜（XPS）方法來測定W1-xTaxO3薄膜樣品中的x值，分別為0%，5%，10%，15%，25%和35%。
